Il PLD-T è un sistema avanzato di deposizione di film sottili che combina due tecniche: Pulsed Laser Deposition (PLD) e evaporazione termica (non simultanee). Questa soluzione ad alto vuoto consente di depositare materiali complessi e strutture cristalline con configurazioni versatili e minimo setup.
La tecnica PLD garantisce un’ablazione non termica efficiente, preservando la stechiometria dei materiali. È ideale per la deposizione di ossidi, nitruri, polimeri, super reticoli e materiali compositi. Il sistema integra anche tre sorgenti termiche indipendenti per la deposizione controllata tramite evaporazione termica, con supporto per diversi tipi di sorgenti (boat, basket, coil).
Il PLD-T è un sistema di deposizione fisica da vapore (PVD) ad alta precisione, ideale per applicazioni in ottica, elettronica e celle solari. È dotato di un manipolatore multi-target motorizzato, che consente la selezione automatica e la rotazione dei target durante il processo di deposizione. L’unità è progettata con una camera da vuoto in acciaio inossidabile (300 mm OD, 200 mm H) e integra una pompa turbomolecolare con supporto opzionale di una pompa rotativa a due stadi da 6 m³/h, garantendo un vuoto pulito senza contaminazione da olio.
Il PLD-T è dotato di un’interfaccia avanzata con touch-screen a colori da 7”, che permette di controllare e monitorare tutti i parametri del processo. Le informazioni sul vuoto e sulla deposizione possono essere visualizzate come dati digitali o curve in tempo reale. Inoltre, lo storico delle ultime 300 deposizioni viene memorizzato e può essere trasferito su PC tramite porta USB.
Con il PLD-T, la ricerca avanzata sulla deposizione di film sottili raggiunge un nuovo livello di precisione e versatilità, offrendo un sistema potente per applicazioni scientifiche e industriali.